鑒于日本可能對(duì)華限制出口以及光刻膠產(chǎn)能緊張等因素，**投資者當(dāng)前已表現(xiàn)出爭(zhēng)相投資一些有能力或有潛力生產(chǎn)可替代日本產(chǎn)品的光刻膠公司。

受此影響，國(guó)內(nèi)光刻膠概念股近日迸發(fā)，其中行業(yè)龍頭容大感光股價(jià)更是三天“狂飆”50%。對(duì)此，多家相關(guān)上市公司提示風(fēng)險(xiǎn)，而容大感光則收到了深交所下發(fā)的關(guān)注函。

可見即便國(guó)際地緣政治趨緊及光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展亟待核心技術(shù)攻堅(jiān)，國(guó)內(nèi)投資者仍需在特殊時(shí)期保持冷靜和理性，以免受不良市場(chǎng)行為擾動(dòng)而影響行業(yè)的健康有序發(fā)展，畢竟分析稱**芯片企業(yè)被半導(dǎo)體材料**打擊而導(dǎo)致突然休克的概率非常低。

光刻膠板塊大漲只因傳聞？

由于日本和荷蘭已同意加入美國(guó)的行列限制對(duì)華出口先進(jìn)芯片設(shè)備和材料，相關(guān)風(fēng)吹草動(dòng)也較容易被捕捉，乃至影響資本市場(chǎng)行情。

3月8日，市場(chǎng)傳言，某日系光刻膠公司對(duì)**某芯片企業(yè)實(shí)施斷供。此后，多個(gè)光刻膠概念股飄紅，其中容大感光收獲連續(xù)兩個(gè)交易日的20%漲停。直到3月10日，在數(shù)家公司發(fā)布提示風(fēng)險(xiǎn)以及深交所對(duì)容大感光下發(fā)關(guān)注函后，光刻膠板塊才進(jìn)入行對(duì)平穩(wěn)的漲跌狀態(tài)。

對(duì)此，美國(guó)知名投資研究及評(píng)級(jí)機(jī)構(gòu)晨星（Morningstar）的分析師菲利克斯·李（Phelix Lee）稱，“通常而言，如果完全切斷一種設(shè)備，那么一條生產(chǎn)線就無(wú)法完工。所以我對(duì)相關(guān)企業(yè)能從中受益多少持懷疑態(tài)度?！?/p>

當(dāng)然，國(guó)內(nèi)光刻膠板塊近日的利好也有其它因素。

一位業(yè)內(nèi)人士對(duì)集微網(wǎng)稱，“盡管現(xiàn)在很多國(guó)內(nèi)客戶找上門買，日本企業(yè)也沒有產(chǎn)能賣，使得貨源確實(shí)比較緊張。他們對(duì)新客戶不送樣、不報(bào)價(jià)，只維持部分老客戶的量。”

“日企風(fēng)格比較保守，不擴(kuò)產(chǎn)的確不夠用。但歷史上日本因?yàn)槊つ繑U(kuò)產(chǎn)，很多企業(yè)都經(jīng)歷過慘痛教訓(xùn)，一朝被蛇咬十年怕井繩，所以這種恐懼好像刻在DNA里，哪怕訂單再多，也不會(huì)輕易擴(kuò)產(chǎn)。很多日本企業(yè)都屬于是那種尋求小而美的公司。”上述行業(yè)人士稱。

另一方面，其中或也有機(jī)構(gòu)及游資嫌疑炒作。正如深交所對(duì)容大感光下發(fā)的關(guān)注函中提及：說明是否存在違反公平披露原則或者誤導(dǎo)投資者、炒作股價(jià)的情形，是否存在借助市場(chǎng)熱點(diǎn)炒作股價(jià)、違規(guī)買賣公司股票的情形等。

此外，在全球半導(dǎo)體競(jìng)逐情況下，目前各國(guó)都在競(jìng)相建立國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體生產(chǎn)，并將大量資金注入芯片行業(yè)。而隨著各新興產(chǎn)業(yè)芯片的需求不斷提升，光刻膠作為關(guān)鍵“卡脖子”技術(shù)之一愈發(fā)受到國(guó)家重視，因而不免會(huì)受益于資本市場(chǎng)的更多關(guān)注及偏好。

如果說光刻膠板塊近日的利好與日本方面可能涉及的斷供有關(guān)，那這或多或少也漲了一個(gè)“烏龍”。日本貿(mào)易大臣已表示，日本尚未就限制芯片制造設(shè)備出口做出決定。但據(jù)悉，日本**在修訂外匯法以允許改變后，最快將于春季開始限制向**出口先進(jìn)的半導(dǎo)體制造設(shè)備等。

**導(dǎo)致休克概率非常低

鑒于芯片的重要性，相關(guān)國(guó)家正在地緣政治博弈中越來越多地將其作為“武器”。而在半導(dǎo)體設(shè)備和光刻膠等化學(xué)品占地重要地位的日本，被認(rèn)為極可能將同步跟進(jìn)美國(guó)的出口管制政策。

菲利克斯·李表示：“我還沒有看到日本出臺(tái)具體政策，但他們很快會(huì)公布更多細(xì)節(jié)并不令人意外。目前，我預(yù)計(jì)日本的限制會(huì)比荷蘭嚴(yán)格，但比美國(guó)寬松，其中部分原因是日本離**較近?！?/p>

一位業(yè)內(nèi)人士則指出，盡管是否斷供光刻膠還沒有最終確定，但是應(yīng)該會(huì)涉及某些型號(hào)。國(guó)內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈透露的信息是有50%以上可能性。此外，他補(bǔ)充稱，日本方面之前也曾有斷供過光刻膠，但那是因?yàn)楫a(chǎn)量不足。

在預(yù)計(jì)可能受限的光刻膠型號(hào)上，或?qū)↘rF、Arf等高端光刻膠。據(jù)浙商證券去年11月發(fā)布的一份報(bào)告，國(guó)內(nèi)傳統(tǒng)級(jí)光刻膠（如G線和I線）的供應(yīng)比例約為30%。然而，KrF光刻膠的供應(yīng)比例下降到10%，高級(jí)Arf和EUV光刻膠的供應(yīng)比例下不到2%。

盡管各大國(guó)產(chǎn)廠商在高端光刻膠領(lǐng)域逐步實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)和規(guī)模出貨，但如果光刻膠供應(yīng)出現(xiàn)不穩(wěn)定狀況，將在一定程度上國(guó)內(nèi)影響相關(guān)廠商擴(kuò)產(chǎn)的進(jìn)度和升級(jí)規(guī)劃。

彭博分析師羅伯特·李（Robert Lea）表示：“如果出口限制針對(duì)的是前沿產(chǎn)品，這將進(jìn)一步阻礙**在先進(jìn)節(jié)點(diǎn)上制造芯片的雄心。”

與此同時(shí)，有機(jī)構(gòu)認(rèn)為，日系光刻膠會(huì)受到美國(guó)出口管制條例（EAR）約束，即對(duì)未經(jīng)合適清單（UVL）和實(shí)體清單（EL）名單中的企業(yè)供貨時(shí)必須先取得許可證，因而存在申請(qǐng)被否進(jìn)而斷供的可能性。

但據(jù)集微網(wǎng)此前了解，EAR對(duì)先進(jìn)制造的管制屬于一般管制，如果在非美國(guó)生產(chǎn)的產(chǎn)品中美國(guó)技術(shù)含量低于25%則不受此規(guī)則限制。日系光刻膠產(chǎn)品很多采用特殊配方，較為容易實(shí)現(xiàn)低于25%美國(guó)技術(shù)含量的限制門檻，基本不受EAR管制，因此仍然可以正常供應(yīng)。

中泰電子分析師則指出，目前半導(dǎo)體材料來源與設(shè)備相比更多元化，**芯片企業(yè)被半導(dǎo)體材料**打擊而導(dǎo)致突然休克的概率非常低。另?yè)?jù)持有類似觀點(diǎn)的行業(yè)分析人士稱，光刻膠可替代的資源較多，影響應(yīng)該不像設(shè)備那么大。

另一方面，國(guó)內(nèi)晶圓廠制程仍以28nm及以上成熟工藝節(jié)點(diǎn)為主，未來擴(kuò)產(chǎn)也仍將保持這一結(jié)構(gòu)，對(duì)光刻膠的需求也集中在中低端產(chǎn)品，這與當(dāng)前國(guó)內(nèi)光刻膠布局正好能匹配。

結(jié)語(yǔ)

雖然在當(dāng)前形勢(shì)下，**芯片企業(yè)被半導(dǎo)體材料**打擊而導(dǎo)致突然休克的概率可能非常低，但其中的相關(guān)挑戰(zhàn)和困境不容忽視。

目前，國(guó)內(nèi)企業(yè)在生產(chǎn)光刻膠方面取得系列進(jìn)展，但高端產(chǎn)品仍主要依賴從日本等國(guó)進(jìn)口，在國(guó)產(chǎn)化方面還需在關(guān)鍵原材料研發(fā)及規(guī)模量產(chǎn)等關(guān)鍵環(huán)節(jié)取得進(jìn)一步突破。另外，即便一些國(guó)內(nèi)企業(yè)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)部分KrF光刻膠的批量量產(chǎn)，但市場(chǎng)份額及行業(yè)話語(yǔ)權(quán)較為有限。

未來，**半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)勢(shì)必需要攻堅(jiān)具有更先進(jìn)工藝和性能的產(chǎn)品，而光刻膠在這一進(jìn)程中尤為重要。面對(duì)當(dāng)前的供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)，國(guó)內(nèi)晶圓廠仍然需要一方面抓緊備貨，一方面加速驗(yàn)證、導(dǎo)入國(guó)產(chǎn)光刻膠。而國(guó)內(nèi)光刻膠業(yè)界則應(yīng)充分利用國(guó)產(chǎn)化賦予的更高包容度和試錯(cuò)契機(jī)，砥礪加速高端光刻膠的技術(shù)攻堅(jiān)和產(chǎn)業(yè)升級(jí)，進(jìn)而推動(dòng)國(guó)內(nèi)前沿半導(dǎo)體生態(tài)的發(fā)展建設(shè)。

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值得注意的是，容大感光已連續(xù)兩日漲停。

消息面上，荷蘭**擬提議限制浸沒式DUV光刻機(jī)的出口，該提議預(yù)計(jì)將在夏季之前公布。阿斯麥對(duì)此回應(yīng)，“額外的出口管制并不涉及所有的浸沒式光刻機(jī)，而只適用于‘最先進(jìn)的’系統(tǒng)?！庇捎跊]有收到明確定義，阿斯麥將“最先進(jìn)的”解讀為“TWINSCANNXT:2000i及后續(xù)的系統(tǒng)?！?/p>

除此之外，昨日的消息面的聯(lián)動(dòng)發(fā)酵。某日本某光刻膠大廠已經(jīng)執(zhí)行美國(guó)“實(shí)體清單”的限制要求，對(duì)**大陸某存儲(chǔ)晶圓廠斷供了KrF光刻膠。同時(shí)，容大感光昨日午間披露機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)表示，公司的干膜光刻膠、顯示用光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠等產(chǎn)品已經(jīng)面向市場(chǎng)實(shí)現(xiàn)了批量銷售，其中部分產(chǎn)品已進(jìn)入核心客戶的供應(yīng)鏈體系。同益股份近期在互動(dòng)平臺(tái)回復(fù)稱，公司引進(jìn)光刻膠基材，部分客戶有少量銷售。金力泰亦在互動(dòng)平臺(tái)提到，子公司超微弧氧化技術(shù)可應(yīng)用于光刻機(jī)設(shè)備零部件的表面處理。

多重消息影響下，半導(dǎo)體“國(guó)產(chǎn)替代”情緒升溫，在容大感光的帶動(dòng)下，光刻膠概念躁動(dòng)頻頻。

管制只適用于“最先進(jìn)的”系統(tǒng)

荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（A**L）9日上午發(fā)布聲明表示，A**L預(yù)計(jì)必須申請(qǐng)?jiān)S可證方可出口DUV設(shè)備。同時(shí)公司還表示“新的出口管制措施并不針對(duì)所有浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)，先進(jìn)程度相對(duì)較低的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。

”荷蘭**在3月8日表示，計(jì)劃對(duì)半導(dǎo)體技術(shù)出口實(shí)施新的管制。據(jù)悉，決定是由荷蘭貿(mào)易部長(zhǎng)Liesje Schreinemacher在致荷蘭議會(huì)的一封信中宣布的。信中稱，這些管制措施將在今天夏天之前開始實(shí)施。

盡管信中并沒有指名道姓地點(diǎn)出A**L和其合作伙伴，但是A**L在最新的聲明中指出，這些新的出口管制措施側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)。

國(guó)內(nèi)廠商光刻膠格局

根據(jù)資料顯示，光刻膠產(chǎn)品按照下游應(yīng)用領(lǐng)域分為半導(dǎo)體光刻膠（IC光刻膠）、PCB光刻膠、LCD光刻膠。其中，半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)難度最大，其根據(jù)曝光波長(zhǎng)分為i線光刻膠(365nm)、KrF光刻膠(248nm)、ArF光刻膠(193nm)等，曝光波長(zhǎng)越短，適用IC制程工藝越先進(jìn)。當(dāng)前，我國(guó)半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)主要由外資企業(yè)壟斷，國(guó)產(chǎn)化程度較低。

近年來，在國(guó)內(nèi)全方位、多角度的產(chǎn)業(yè)支持下，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化水平不斷提升，特別是2018年以來美國(guó)縮緊對(duì)華半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)**，國(guó)產(chǎn)替代持續(xù)加速。

目前，在制造端和設(shè)備端，國(guó)產(chǎn)化率均得到快速提升，自主化產(chǎn)業(yè)鏈初具雛形，近5年來IC設(shè)計(jì)、晶圓制造、封裝測(cè)試、設(shè)備材料等各環(huán)節(jié)中均有部分細(xì)分賽道的國(guó)產(chǎn)化率實(shí)現(xiàn)快速提升。

PCB光刻膠主要分為干膜光刻膠、濕膜及阻焊油墨。其中，干膜光刻膠幾乎全進(jìn)口，濕膜及阻焊油墨國(guó)產(chǎn)化率約為50%，國(guó)內(nèi)代表廠商為容大感光、東方材料等。

LCD光刻膠主要分為CF彩色光刻膠、CF黑色光刻膠、TFT-LCD正性光刻膠。前兩者國(guó)產(chǎn)化率均為5%，TFT-LCD正性光刻膠大部分進(jìn)口。

而最受業(yè)界關(guān)注的，當(dāng)屬半導(dǎo)體光刻膠。半導(dǎo)體光刻膠可分為g線光刻膠、i線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠和EUV光刻膠。

g線光刻膠適用的邏輯制程工藝為0.5微米以上；i線光刻膠適用為0.5微米；KrF光刻膠適用0.25微米-0.11微米；ArF光刻膠適用90納米-7納米，EUV光刻膠適用7納米及以下。

晶圓尺寸方面，g線光刻膠適用6英寸；i線光刻膠適用6英寸、8英寸；KrF光刻膠適用8英寸；ArF光刻膠、EUV光刻膠適用12英寸。

半導(dǎo)體光刻膠國(guó)產(chǎn)化方面，g線光刻膠、i線光刻膠國(guó)產(chǎn)化率為10%。g線光刻膠、i線光刻膠代表廠商有容大感光、蘇州瑞紅（晶瑞新材子公司）、北京科華和徐州博康。

KrF光刻膠、ArF光刻膠國(guó)產(chǎn)化率僅為1%，國(guó)內(nèi)代表廠商為上海新陽(yáng)（SZ300236，股價(jià)34.60元，市值108.43億元）、南大光電、蘇州瑞紅、北京科華和徐州博康。

浙商證券蔣高振在近期研報(bào)中指出，根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)顯示，2021年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)中，**大陸市場(chǎng)保持最快增速，同比增長(zhǎng)43.69%。受益于半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)進(jìn)步帶來的KrF膠和ArF膠單價(jià)值量和總需求快速提升，預(yù)測(cè)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)有望以高于全球的增速持續(xù)增長(zhǎng)。

不過也需要注意到，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在關(guān)鍵芯片及設(shè)備領(lǐng)域的國(guó)產(chǎn)化率仍處于較低水平，高端國(guó)產(chǎn)替代還任重道遠(yuǎn)。此外，受終端消費(fèi)不景氣影響，目前半導(dǎo)體行業(yè)的寒意未散，國(guó)外巨頭對(duì)一季度前景普遍偏悲觀。

因此，中長(zhǎng)期角度來看，半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)替代是大勢(shì)所趨，行業(yè)前景廣闊。但短期仍不建議太過樂觀，切忌盲目追高。

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