中長期角度來看，半導(dǎo)體國產(chǎn)替代是大勢所趨，行業(yè)前景廣闊。
3月9日早盤，光刻膠概念延續(xù)強(qiáng)勢。截至發(fā)稿，光刻膠指數(shù)大漲超6%。容大感光“20cm”漲停，彤程新材漲停，上海新陽漲超11%，強(qiáng)力新材、南大光電、廣信材料等多股跟漲。
值得注意的是，容大感光已連續(xù)兩日漲停。
消息面上，荷蘭**擬提議限制浸沒式DUV光刻機(jī)的出口，該提議預(yù)計(jì)將在夏季之前公布。阿斯麥對此回應(yīng)，“額外的出口管制并不涉及所有的浸沒式光刻機(jī)，而只適用于‘最先進(jìn)的’系統(tǒng)。”由于沒有收到明確定義，阿斯麥將“最先進(jìn)的”解讀為“TWINSCANNXT:2000i及后續(xù)的系統(tǒng)?！?/p>
除此之外，昨日的消息面的聯(lián)動(dòng)發(fā)酵。某日本某光刻膠大廠已經(jīng)執(zhí)行美國“實(shí)體清單”的限制要求，對**大陸某存儲(chǔ)晶圓廠斷供了KrF光刻膠。同時(shí)，容大感光昨日午間披露機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)表示，公司的干膜光刻膠、顯示用光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠等產(chǎn)品已經(jīng)面向市場實(shí)現(xiàn)了批量銷售，其中部分產(chǎn)品已進(jìn)入核心客戶的供應(yīng)鏈體系。同益股份近期在互動(dòng)平臺(tái)回復(fù)稱，公司引進(jìn)光刻膠基材，部分客戶有少量銷售。金力泰亦在互動(dòng)平臺(tái)提到，子公司超微弧氧化技術(shù)可應(yīng)用于光刻機(jī)設(shè)備零部件的表面處理。
多重消息影響下，半導(dǎo)體“國產(chǎn)替代”情緒升溫，在容大感光的帶動(dòng)下，光刻膠概念躁動(dòng)頻頻。
管制只適用于“最先進(jìn)的”系統(tǒng)
荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（A**L）9日上午發(fā)布聲明表示，A**L預(yù)計(jì)必須申請?jiān)S可證方可出口DUV設(shè)備。同時(shí)公司還表示“新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統(tǒng)，先進(jìn)程度相對較低的浸潤式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。
”荷蘭**在3月8日表示，計(jì)劃對半導(dǎo)體技術(shù)出口實(shí)施新的管制。據(jù)悉，決定是由荷蘭貿(mào)易部長Liesje Schreinemacher在致荷蘭議會(huì)的一封信中宣布的。信中稱，這些管制措施將在今天夏天之前開始實(shí)施。
盡管信中并沒有指名道姓地點(diǎn)出A**L和其合作伙伴，但是A**L在最新的聲明中指出，這些新的出口管制措施側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)。
國內(nèi)廠商光刻膠格局
根據(jù)資料顯示，光刻膠產(chǎn)品按照下游應(yīng)用領(lǐng)域分為半導(dǎo)體光刻膠（IC光刻膠）、PCB光刻膠、LCD光刻膠。其中，半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)難度最大，其根據(jù)曝光波長分為i線光刻膠(365nm)、KrF光刻膠(248nm)、ArF光刻膠(193nm)等，曝光波長越短，適用IC制程工藝越先進(jìn)。當(dāng)前，我國半導(dǎo)體光刻膠市場主要由外資企業(yè)壟斷，國產(chǎn)化程度較低。
近年來，在國內(nèi)全方位、多角度的產(chǎn)業(yè)支持下，國內(nèi)半導(dǎo)體國產(chǎn)化水平不斷提升，特別是2018年以來美國縮緊對華半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)**，國產(chǎn)替代持續(xù)加速。
目前，在制造端和設(shè)備端，國產(chǎn)化率均得到快速提升，自主化產(chǎn)業(yè)鏈初具雛形，近5年來IC設(shè)計(jì)、晶圓制造、封裝測試、設(shè)備材料等各環(huán)節(jié)中均有部分細(xì)分賽道的國產(chǎn)化率實(shí)現(xiàn)快速提升。
PCB光刻膠主要分為干膜光刻膠、濕膜及阻焊油墨。其中，干膜光刻膠幾乎全進(jìn)口，濕膜及阻焊油墨國產(chǎn)化率約為50%，國內(nèi)代表廠商為容大感光、東方材料等。
LCD光刻膠主要分為CF彩色光刻膠、CF黑色光刻膠、TFT-LCD正性光刻膠。前兩者國產(chǎn)化率均為5%，TFT-LCD正性光刻膠大部分進(jìn)口。
而最受業(yè)界關(guān)注的，當(dāng)屬半導(dǎo)體光刻膠。半導(dǎo)體光刻膠可分為g線光刻膠、i線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠和EUV光刻膠。
g線光刻膠適用的邏輯制程工藝為0.5微米以上；i線光刻膠適用為0.5微米；KrF光刻膠適用0.25微米-0.11微米；ArF光刻膠適用90納米-7納米，EUV光刻膠適用7納米及以下。
晶圓尺寸方面，g線光刻膠適用6英寸；i線光刻膠適用6英寸、8英寸；KrF光刻膠適用8英寸；ArF光刻膠、EUV光刻膠適用12英寸。
半導(dǎo)體光刻膠國產(chǎn)化方面，g線光刻膠、i線光刻膠國產(chǎn)化率為10%。g線光刻膠、i線光刻膠代表廠商有容大感光、蘇州瑞紅（晶瑞新材子公司）、北京科華和徐州博康。
KrF光刻膠、ArF光刻膠國產(chǎn)化率僅為1%，國內(nèi)代表廠商為上海新陽（SZ300236，股價(jià)34.60元，市值108.43億元）、南大光電、蘇州瑞紅、北京科華和徐州博康。
浙商證券蔣高振在近期研報(bào)中指出，根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)顯示，2021年全球半導(dǎo)體光刻膠市場中，**大陸市場保持最快增速，同比增長43.69%。受益于半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)進(jìn)步帶來的KrF膠和ArF膠單價(jià)值量和總需求快速提升，預(yù)測國內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠市場有望以高于全球的增速持續(xù)增長。
不過也需要注意到，國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在關(guān)鍵芯片及設(shè)備領(lǐng)域的國產(chǎn)化率仍處于較低水平，高端國產(chǎn)替代還任重道遠(yuǎn)。此外，受終端消費(fèi)不景氣影響，目前半導(dǎo)體行業(yè)的寒意未散，國外巨頭對一季度前景普遍偏悲觀。
因此，中長期角度來看，半導(dǎo)體國產(chǎn)替代是大勢所趨，行業(yè)前景廣闊。但短期仍不建議太過樂觀，切忌盲目追高。
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